Logo BSU

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: http://elib.bsu.by/handle/123456789/27438
Заглавие документа: Magnetotransport in Nanostructured Ni Films Electrodeposited on Si Substrate
Авторы: Fedotova, J. A.
Fedotov, A. K.
Mazanik, A. V.
Svito, I. A.
Saad, A.
Koltunowicz, T. N.
Дата публикации: апр-2012
Библиографическое описание источника: Electrical Review, R.88, N.4a (2012) 90–92
Аннотация: The study of electrical resistivity  and magnetoresistance MR in nanogranular Ni films was performed over the temperature range 2 - 300 K and at the magnetic field induction B up to 8 T. The Ni layers having a thickness of about 500 nm were prepared by electrodeposition on n-Si wafers. According to an X-ray diffraction study, a strongly textured face-centered cubic structure was formed in the as-deposited films with an average grain sizes of about 10 - 70 nm. Experiments have demonstrated that the magnetic field and temperature dependences of the MR effect in Ni films shown two main peculiarities: (1) dependencies on the mutual orientations of vectors B, current and the film plane; (2) two contributions to the MR - negative anisotropic magnetoresistance and positive Lorentz-like MR.
URI документа: http://elib.bsu.by/handle/123456789/27438
ISSN: 0033-2097
Располагается в коллекциях:Статьи сотрудников физического факультета

Полный текст документа:
Файл Описание РазмерФормат 
Magnetotransport in Nanostructured Ni Films Electrodeposited on Si Substrate.pdf363,71 kBAdobe PDFОткрыть

Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.