Please use this identifier to cite or link to this item:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/163725| Title: | Оптимизация процесса химико-механической полировки вольфрама для формирования межсоединений субмикронных ИМС |
| Authors: | Наливайко, О. Ю. Роговой, В. И. Турцевич, А. С. |
| Keywords: | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика ЭБ БГУ::ТЕХНИЧЕСКИЕ И ПРИКЛАДНЫЕ НАУКИ. ОТРАСЛИ ЭКОНОМИКИ::Химическая технология. Химическая промышленность |
| Issue Date: | 2016 |
| Publisher: | Минск : Изд. центр БГУ |
| Citation: | Материалы и структуры современной электроники : сб. науч. тр. VII Междунар. науч. конф., посвящ. 50-летию каф. физики полупроводников и наноэлектроники, Минск, 12–13 окт. 2016 г. / редкол. : В. Б. Оджаев (отв. ред.) [и др.]. — Минск : Изд. центр БГУ, 2016. — С. 95–98. |
| URI: | http://elib.bsu.by/handle/123456789/163725 |
| ISBN: | 978-985-553-403-8 |
| Sponsorship: | Белорусский республиканский фонд фундаментальных исследований. |
| Appears in Collections: | 2016. Материалы и структуры современной электроники |
Files in This Item:
| File | Description | Size | Format | |
|---|---|---|---|---|
| С.95-98_Наливайко.pdf | 421,71 kB | Adobe PDF | View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.