Logo BSU

Please use this identifier to cite or link to this item: https://elib.bsu.by/handle/123456789/165416
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorКлимович, И. М.-
dc.contributor.authorЗайков, В. А.-
dc.contributor.authorСеменева, Н. В.-
dc.date.accessioned2017-01-16T13:51:45Z-
dc.date.available2017-01-16T13:51:45Z-
dc.date.issued2016-
dc.identifier.citationМатериалы и структуры современной электроники : сб. науч. тр. VII Междунар. науч. конф., посвящ. 50-летию каф. физики полупроводников и наноэлектроники, Минск, 12–13 окт. 2016 г. / редкол. : В. Б. Оджаев (отв. ред.) [и др.]. — Минск : Изд. центр БГУ, 2016. — С. 248–251.ru
dc.identifier.isbn978-985-553-403-8-
dc.identifier.urihttp://elib.bsu.by/handle/123456789/165416-
dc.description.abstractЗадачей данного исследования является выявление зависимости удельного сопротивления и распределения размеров структурных элементов Ti–Al–N покрытий от температуры и потенциала смещения на подложке во время осаждения методом реактивного магнетронного распыления.ru
dc.description.sponsorshipБелорусский республиканский фонд фундаментальных исследований.ru
dc.language.isoruru
dc.publisherМинск : Изд. центр БГУru
dc.subjectЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физикаru
dc.titleВлияние режимов реактивного магнетронного нанесения на структурные и электрофизические свойства покрытий Ti-Al-Nru
dc.typeconference paperru
Appears in Collections:2016. Материалы и структуры современной электроники

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
С.248-251_Климович.pdf447,51 kBAdobe PDFView/Open
Show simple item record Google Scholar



PlumX

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.