Logo BSU

Please use this identifier to cite or link to this item: https://elib.bsu.by/handle/123456789/228453
Title: Исследование влияния поверхностно-активных веществ на устойчивость полирующих суспензий диоксида кремния
Authors: Савицкая, Т. А.
Кимленко, И. М.
Шахно, Е. А.
Гайшун, В. Е.
Косенок, Я. А.
Keywords: ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Химия
Issue Date: 2015
Publisher: Минск : БГУ
Citation: Свиридовские чтения : сб. ст. Вып. 11. — Минск : БГУ, 2015. — С. 121-131
Abstract: Подобраны составы полирующих суспензий на основе наноразмерного диоксида кремния с использованием в качестве добавок неионогенных и ионогенных ПАВ. Изучено влияние ПАВ различной природы на дисперсный состав, устойчивость и реологические характеристики 25 % (масс) суспензий аэросила ОХ-50. С применением анионогенного ПАВ (додецилсульфата натрия) при концентрации ниже критической концентрации мицеллообразования (ККМ) получена стабильная суспензия с концентрацией дисперсной фазы 49 % (масс). Использование неионогенного ПАВ (моноолеата глицерина) позволило получить стабильную суспензию с концентрацией дисперсной фазы 39 % (масс) при концентрации ПАВ выше ККМ. Разработка технологии получения концентрированных стабильных суспензий на основе диоксида кремния для химико-механической полировки полупроводниковых пластин позволит отказаться от дорогостоящих импортных материалов и снизить затраты на производство конечной продукции.
Abstract (in another language): Suspensions based on nanosized silica modified by ionogenic and nonionogenic surfactants have been obtained. The influence of different surfactants on the dispersion composition, stability and rheological properties of 25 % (mass) OX-50 suspensions has been investigated. Modification of suspension by anionogenic surfactant (sodium dodecyl sulfate with concentration under critical concentration of micelle formation, CCM) promotes the formation of the stable suspension containing 49 % (mass) dispersion phase while modification by nonionogenic surfactant (glycerin monooleate with concentration above CCM) promotes the formation of the stable suspension containing 39 % (mass) dispersion phase. The findings can be applied for developing the technology of synthesis of concentrated stable suspensions used for chemical-mechanical polishing of semiconductor plates.
URI: http://elib.bsu.by/handle/123456789/228453
ISBN: 978-985-566-165-9
Appears in Collections:Выпуск 11

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
121-131.pdf318,41 kBAdobe PDFView/Open


PlumX

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.