Logo BSU

Please use this identifier to cite or link to this item: https://elib.bsu.by/handle/123456789/304262
Title: Ионно-плазменные, электронно-пучковые и комплексные установки для модификации поверхности твердых тел
Other Titles: Ion-plasma, electron-beam and complex facilities for surface modification of materials / N.N. Koval, Yu.H. Akhmadeev, V.V. Denisov, M.S. Vorobyov, V.N. Devyatkov, E.V. Ostroverkhov, S.S. Kovalsky, V.V. Yakovlev
Authors: Коваль, Н. Н.
Ахмадеев, Ю. Х.
Денисов, В. В.
Воробьев, М. С.
Девятков, В. Н.
Островерхов, Е. В.
Ковальский, С. С.
Яковлев, В. В.
Keywords: ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
Issue Date: 2023
Publisher: Минск : БГУ
Citation: Взаимодействие излучений с твердым телом : материалы 15-й Междунар. конф., Минск, Беларусь, 26-29 сент. 2023 г. / Белорус, гос. ун-т ; редкол.: В. В. Углов (гл. ред.) [и др.]. – Минск : БГУ, 2023. – С. 510-513.
Abstract: Рассмотрены принцип действия, конструкции, основные характеристики и параметры, а также примеры применения новых и модернизированных электронно-ионно-плазменных установок, созданных в Институте сильноточной электроники СО РАН. Установки используют объёмные плазменные образования, генерируемые разрядами низкого давления, в качестве рабочей среды для обработки помещённых в неё материалов и изделий либо в качестве имитирующей электроны плазмы в источниках электронов с плазменным катодом. Комплексные электронно-ионно-плазменные установки позволяют в едином вакуумном цикле осуществлять ионно-плазменную очистку, активацию и азотирование поверхности металлических материалов, создавая протяжённый (десятки-сотни микрометров) подслой, на которой электродуговым или магнетронным методом с плазменным ассистированием наносится тонкий (единицы микрометров) функциональный слой, что позволяет существенно (единицы-десятки раз) улучшить износостойкость обработанной таким образом поверхности образцов и изделий. С использованием результатов приведённой работы создан вакуумный электронно-ионно-плазменный стенд для in situ исследований структур, формируемых электронно-ионно-плазменными методами с использованием синхротронного излучения
Abstract (in another language): The principle of operation, design, main characteristics and parameters, as well as examples of the use of new and modernized electron-ion-plasma facilities created at the Institute of High-Current Electronics of the Siberian Branch of the Russian Academy of Sciences are considered. The facilities use volumetric plasma formations generated by low-pressure discharges. These plasma formations are used as a working medium for treatment of materials and products or as an electron-emitting plasma in electron sources with a plasma cathode. Complex electron-ion-plasma facilities make it possible to carry out ion-plasma cleaning, activation and nitriding of the surface of metal materials, as well as the application of functional coatings in a single vacuum cycle. Nitriding leads to the formation of an extended (tens to hundreds of micrometers) sublayer, on which a thin (several micrometers) functional layer is deposited by the electric arc or magnetron method with plasma assistance. This makes it possible to significantly (a few to tens of times) improve the wear resistance of the surface of samples and products treated in this way. Using the results of this work, a vacuum electron-ion-plasma stand was created for in-situ synchrotron studies of structures formed by electron-ion-plasma methods
Description: Секция 5. Методы, оборудование, плазменные и радиационные технологии = Section 5. Methods, equipment, plasma and radiation technologies
URI: https://elib.bsu.by/handle/123456789/304262
ISSN: 2663-9939 (Print)
2706-9060 (Online)
Sponsorship: Работа выполнена при финансовой поддержке Российской Федерации в лице Министерства науки и высшего образования (проект № 075-15-2021-1348) в рамках мероприятия номер № 3.2.6.
Licence: info:eu-repo/semantics/openAccess
Appears in Collections:2023. Взаимодействие излучений с твердым телом

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
510-513.pdf303,92 kBAdobe PDFView/Open
Show full item record Google Scholar



Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.